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二氧化硅抛光液(研磨液）

简介:

二氧化硅抛光液具有应用领域广、抛光效率高、抛光效果好、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。用在氧化铈抛光片上使用或聚氨脂皮上，能增加研磨纸使用寿命又能达到好的抛光效果，不会对加工件造成物理损伤，可达到客户所需的要求。
二氧化硅抛光液(研磨液)产品是以纳米二氧化硅(SiO2)为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。
可生产不同粒度（10~150 nm）的产品满足用户需求。

包装：500 ml/瓶

储存：
储存温度0~35 ℃，在0 ℃以下因产生不可再分散凝胶而失效，温度高于35 ℃条件下储存会促使微生物生长和加速凝胶化，缩短储藏期。上述条件下碱性抛光液可存放两年左右，酸性抛光液可存放半年左右。

用量：推荐使用量3-12%，客户可根据实际情况试验选择添加量。

适用领域范围：光纤连接器研磨抛光、陶瓷插芯、硅片PLC、化合物晶体、硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片，精密光学器件、宝石等研磨抛光加工。

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