氧化铈研磨液

简介:

纳米氧化铈抛光液(研磨液)产品是以纳米氧化铈为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品，用于多种材料纳米级的高平坦化抛光。
纳米氧化铈抛光液具有抛光效率高、抛光效果好精度高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。用在氧化铈抛光片上使用或聚氨酯皮上，能增加研磨纸使用寿命又能达到理想的抛光效果，不会对加工件造成物理损伤，可达到客户所需的要求。可生产不同粒度（10~150nm）的产品。
纳米氧化铈研磨液具有以下特点：
1.质量稳定，粒度细，颗粒分布均匀，软硬适中，不易划伤抛光物体表面；
2.分散性好，提高抛光效率和精度。

注意事项：

1.建议使用前摇匀，以防沉淀；

2.使用时可稀释，调制不同浓度。
储存温度0~35 ℃，在0 ℃以下因产生不可再分散凝胶而失效，温度高于35 ℃条件下储存会促使微生物生长和加速凝胶化，缩短储藏期。

0~35 ℃下碱性抛光液可存放两年左右，酸性抛光液可存放半年左右。
用量：推荐使用量3-12%，客户可根据实际情况试验选择添加量。
适用领域范围：光纤连接器研磨抛光、陶瓷插芯、硅片PLC、化合物晶体、硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片，精密光学器件、宝石等研磨抛光加工。
应用范围：适用于光通信行业的NPO光纤连接器的光纤研磨抛光，需配合抛光布/垫。